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  • 中頻磁控鍍膜設(shè)備
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中頻磁控鍍膜設(shè)備

磁控濺射鍍膜設(shè)備是集直流磁控濺射、中頻磁控濺射和多弧離子三種技術(shù)融合一體的,可適應(yīng)廣泛鍍膜靶材,無論是金屬還是介質(zhì)、化合材料都可以利用濺射工藝進(jìn)行鍍膜和成膜,使膜層附著力、致密度、重復(fù)度及顏色一致性等特點(diǎn)??梢藻兘饘倌?,還可以鍍氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻、氧化鈦、TiN、ZrN、TiAlN、TiC、TiCN、CrN、Al2O3等多種膜層。

全SUS304優(yōu)質(zhì)不銹鋼機(jī)身,隱藏式雙層冷卻水套設(shè)計(jì)

合理配備多套全新研制的離子弧源,有效保障弧源濺射的穩(wěn)定性與均勻性。

采用多路進(jìn)氣系統(tǒng),精準(zhǔn)控制氣體流量,滿足您多種化合物膜層需求。

結(jié)合脈沖偏壓技術(shù),極大提高電粒子能量,從而獲得優(yōu)秀的膜層結(jié)合力和光潔度。

該設(shè)備主要廣泛應(yīng)用于:五金產(chǎn)品、玻璃工藝品、陶瓷工藝品,如衛(wèi)浴產(chǎn)品、手表鐘表、刀具、模具、水晶玻璃、高爾夫球具、燈具、眼鏡框架、瓷磚地板磚等等。

可加工的材料包括:不銹鋼、銅、鐵、鋅合金、鋁、ABS、玻璃、陶瓷等。

可鍍基材表面狀態(tài):普通電鍍亮面、啞面(半啞、全?。⒐に囯婂儼櫦y、拉絲、雨滴等。

鍍制顏色有:半透明、金、銀、玫瑰金、黑、深黑、綠、藍(lán)、紫、七彩等。

肖先生: 0086-13646627677

  • 設(shè)備參數(shù)

    型號(hào)

    HY-1214

    HY-1416

    HY-1618

    真空室尺寸

    ?1200*1400mm

    ?1400*1600mm

    ?1600*1800mm

    真空室結(jié)構(gòu)

    立式單開門

    鍍膜方式

    離子配偏壓技術(shù)

    極限真空

    8.0*10-4Pa?(空載)

    抽氣時(shí)間

    空載大氣抽至5.0*10-2Pa小于15分鐘

    焊材類型

    鈦靶、鉻靶、鋯靶、鐵靶、鈦鋁靶,各種中頻靶、直流靶等

    鍍膜顏色

    半透明、金、銀、玫瑰金、黑、綠、藍(lán)、紫、七彩、?TiN、ZrN、TiAlN、TiC、TiCN、CrN、Al2O3等

    控制方式

    全自動(dòng),半自動(dòng),手動(dòng) PLC觸摸屏控制

    特殊要求

    按客戶特殊工藝要求定制

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