磁控濺射鍍膜設備是集直流磁控濺射、中頻磁控濺射和多弧離子三種技術(shù)融合一體的,可適應廣泛鍍膜靶材,無論是金屬還是介質(zhì)、化合材料都可以利用濺射工藝進行鍍膜和成膜,使膜層附著力、致密度、重復度及顏色一致性等特點??梢藻兘饘倌?,還可以鍍氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻、氧化鈦、TiN、ZrN、TiAlN、TiC、TiCN、CrN、Al2O3等多種膜層。
全SUS304優(yōu)質(zhì)不銹鋼機身,隱藏式雙層冷卻水套設計
合理配備多套全新研制的離子弧源,有效保障弧源濺射的穩(wěn)定性與均勻性。
采用多路進氣系統(tǒng),精準控制氣體流量,滿足您多種化合物膜層需求。
結(jié)合脈沖偏壓技術(shù),極大提高電粒子能量,從而獲得優(yōu)秀的膜層結(jié)合力和光潔度。
該設備主要廣泛應用于:五金產(chǎn)品、玻璃工藝品、陶瓷工藝品,如衛(wèi)浴產(chǎn)品、手表鐘表、刀具、模具、水晶玻璃、高爾夫球具、燈具、眼鏡框架、瓷磚地板磚等等。
可加工的材料包括:不銹鋼、銅、鐵、鋅合金、鋁、ABS、玻璃、陶瓷等。
可鍍基材表面狀態(tài):普通電鍍亮面、啞面(半啞、全?。?、工藝電鍍皺紋、拉絲、雨滴等。
鍍制顏色有:半透明、金、銀、玫瑰金、黑、深黑、綠、藍、紫、七彩等。
肖先生: 0086-13646627677
型號 |
HY-1214 |
HY-1416 |
HY-1618 |
真空室尺寸 |
?1200*1400mm |
?1400*1600mm |
?1600*1800mm |
真空室結(jié)構(gòu) |
立式單開門 |
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鍍膜方式 |
離子配偏壓技術(shù) |
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極限真空 |
8.0*10-4Pa?(空載) |
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抽氣時間 |
空載大氣抽至5.0*10-2Pa小于15分鐘 |
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焊材類型 |
鈦靶、鉻靶、鋯靶、鐵靶、鈦鋁靶,各種中頻靶、直流靶等 |
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鍍膜顏色 |
半透明、金、銀、玫瑰金、黑、綠、藍、紫、七彩、?TiN、ZrN、TiAlN、TiC、TiCN、CrN、Al2O3等 |
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控制方式 |
全自動,半自動,手動 PLC觸摸屏控制 |
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特殊要求 |
按客戶特殊工藝要求定制 |
產(chǎn)量大
6/8軸轉(zhuǎn)架,高效提升產(chǎn)量
成本低
單個產(chǎn)品鍍膜成本低
速度快
單批次處理時間短
操作簡單
全自動化,易于操作
完全環(huán)保
綠色無污染生產(chǎn)
遠程控制
遠程診斷和檢測