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真空鍍膜機鍍膜過程中，常見的幾種離子源
發(fā)布時間:2022-05-16
真空鍍膜機鍍膜過程中，常見的幾種離子源
為了提高工件的附著力、結(jié)合力、膜結(jié)構(gòu)，許多真空鍍膜機在鍍膜過程中都配備了離子源。
雖然離子源有許多類型，但其目的無非是在線清洗，改善鍍表面的能量分布和調(diào)制以增加反應(yīng)氣體的能量。離子源可以大大提高膜與基體之間的結(jié)合強度，也可以提高膜本身的硬度和耐磨性。如果電鍍工具的耐磨層一般較厚，且膜厚均勻性不高，可以采用離子電流較大、能級較高的離子源，如霍爾離子源或陽極離子源。
陽極層離子源，原理類似霍爾離子源。環(huán)形(矩形或圓形)窄縫外加增強磁場，在陽極的作用下使工作氣體電離并發(fā)射到工件上。陽極層離子源可以制成非常大和長，特別適用于建筑玻璃等大型零件的電鍍。陽極層離子源離子電流也較大。但是，離子流是發(fā)散的，能級分布太寬。一般適用于大型工件、玻璃、耐磨、裝飾工件。但在先進(jìn)光學(xué)涂層中的應(yīng)用并不多。
該真空鍍膜機配備霍爾離子源，陽極與強軸向磁場協(xié)同使工藝氣體電離。這種軸向磁場的強烈不平衡將氣體離子分離，形成離子束。由于軸向磁場太強，霍爾離子源離子束需要補充電子以中和離子流。一種常見的中和源是鎢絲(陰極)。
